規(guī)格參數(shù)

1. 材質(zhì)：高純鉑金 Pt，純度 99.95%

2. 外形尺寸：直徑 φ57mm，厚度 0.1mm 圓形薄片靶材

3. 適配設(shè)備：JEOL JEC-3000FC、JEC 系列臺(tái)式濺射鍍膜儀

4. 鍍膜適用樣品：陶瓷、高分子塑料、玻纖、礦物、生物樣品、半導(dǎo)體晶圓等絕緣試樣

5. 膜層特點(diǎn)：顆粒極細(xì)、膜層均勻連續(xù)，無(wú)大顆粒結(jié)晶

6. 單次有效鍍膜時(shí)長(zhǎng)：根據(jù)樣品數(shù)量，常規(guī)實(shí)驗(yàn)室可連續(xù)使用數(shù)十次鍍膜循環(huán)

7. 存儲(chǔ)條件：常溫干燥避光存放，避免劃傷、氧化污染靶面

產(chǎn)品核心優(yōu)勢(shì)

1. 超細(xì)鉑晶粒，適配超高分辨 SEM 觀測(cè)

   對(duì)比金靶，鉑濺射形成的導(dǎo)電顆粒尺寸更小，高倍下不會(huì)出現(xiàn)顆粒偽影，適合納米級(jí)形貌、微結(jié)構(gòu)、薄膜截面高清成像。

2. 不干擾 EDS 元素能譜檢測(cè)

   鉑金特征峰位置避開(kāi)多數(shù)金屬、非金屬樣品元素峰，做成分分析時(shí)無(wú)嚴(yán)重峰重疊干擾，測(cè)試數(shù)據(jù)更精準(zhǔn)。

3. 導(dǎo)電膜薄且連續(xù)，抑制荷電漂移

   極薄鉑膜即可形成完整導(dǎo)電通路，減少電子束堆積電荷，杜絕圖像發(fā)白、漂移、畸變，大幅降低成像調(diào)試難度。

4. 原廠匹配尺寸，安裝即裝即用

   φ57 標(biāo)準(zhǔn)尺寸適配 JEOL JEC 濺射設(shè)備腔體卡座，無(wú)需裁剪、轉(zhuǎn)接，拆裝便捷，更換僅需 1 分鐘。

5. 高純度穩(wěn)定濺射，使用壽命長(zhǎng)

   99.95 高純鉑材質(zhì)，濺射速率穩(wěn)定，同等厚度下耗材使用周期優(yōu)于普通進(jìn)口替代靶材，減少頻繁更換停機(jī)。

6. 兼容生物、陶瓷、高分子各類絕緣樣品

   生物樣品低溫噴鍍不損傷組織；陶瓷、樹(shù)脂、復(fù)合材料不會(huì)因荷電產(chǎn)生圖像失真。